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エッチングの核心的課題:化学的または物理的手段によって金属上でミクロン級の精度を実現する。
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半導体産業用精密金属エッチング装置
2026-03-14

精密金属エッチング装置は現代の半導体製造において重要な役割を果たしている。

これらのシステムは、次のような用途で広く使用されています。

  • 半導体リードフレーム

  • 精密コネクタ

  • 金属ろ過モジュール

  • マイクロエレクトロニクス部品

近代的なエッチング装置は、一般に、

  • 自動生産ライン

  • 高精度ジェットエッチングシステム

  • 多金属加工能力

  • 環境適化のための化学システム

G8.6 generation metal mask etching production line.jpg
精密金属エッチング装置
Chemical etching equipment-800.jpg
リードフレームエッチング装置
Lead Frame Manufacturing.jpg
半導体リードフレーム

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